OPTIC-LOGIC REVIEW | VOL. 12 | NO. 4 | APRIL 2026
The EUV Lithography Challenge: 原子級平整度的極限挑戰
摘要：極深紫外光 (EUV) 光刻技術是延續摩爾定律的核心。本文探討如何在 13.5nm 波長下，透過超精密拋光技術實現表面粗糙度小於 0.1nm 的鏡面反射系統，以及其對半導體製程的深遠影響。
在極深紫外光 (EUV) 的世界裡，傳統的折射式透鏡已不再適用，因為幾乎所有物質都會吸收這個波長的光。因此，光學系統必須完全由反射鏡組成。這些反射鏡不僅需要具備多層鉬矽 (Mo/Si) 鍍膜以提高反射率，其基底的平整度更必須達到原子級別。
Optic-Logic 研發的離子束拋光 (IBF) 技術，能夠在奈米尺度上精確移除材料，確保波前畸變控制在 λ/100 以內。這項技術的突破，直接決定了 2nm 甚至更先進製程的良率...
OPTIC-LOGIC REVIEW | VOL. 12 | NO. 3 | MARCH 2026
Silicon Photonics 2.0: 當光子取代電子
摘要：隨著數據中心算力需求的爆炸式增長，傳統電訊號傳輸面臨嚴重的功耗與延遲瓶頸。矽光子技術透過在矽基晶片上整合光學元件，實現了高頻寬、低功耗的數據傳輸方案。
矽光子 2.0 時代的到來，標誌著光電整合進入了一個全新的階段。我們設計的微環諧振器 (Micro-ring Resonator) 與高效能調製器，能夠在極小的晶片面積內處理數 Tbps 的數據流量...